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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述了选择用于扫描电子显微镜测量和或其他检查的图案布局的视场（704‑712）的一个或多个列表（700；702）。基于图案布局的图案组和对给定视场的特性的约束项确定候选视场的集合。给定视场的特性包括从给定视场到另一视场的距离和或给定视场的尺寸。根据用于一个或多个列表中包括的视场的组合的规定标准，从候选视场的集合选择视场的一个或多个列表。规定标准使得预定数目的视场列表中包括最佳多样化的图案组。
主权项：1.一种用于选择图案布局的视场的一个或多个子集的方法，所述方法包括：基于所述图案布局的图案组确定候选视场的集合；以及根据规定标准并基于所述图案组，从所述候选视场的集合选择所述视场的所述一个或多个子集，其中所述规定标准是用于扫描电子显微镜SEM测量的一个或多个子集中包括的视场组合。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于半导体制造相关联的量测的视场选择
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