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申请/专利权人：达高工业技术研究院(广州)有限公司
摘要：本发明提供了一种负性光刻胶显影液组合物及其制备方法和应用，涉及湿电子化学品技术领域。本发明所述负性光刻胶显影液组合物按质量份数包括：脒类化合物0.1～34份、复配增溶剂2～18份、Gemini型表面活性剂0.8～32份、缓冲剂0.1～8份、抗污促进剂0.5～20份、平整调节剂0.4～7份；其中，所述复配增溶剂包括有机酸铵和离子液体。所述负性光刻胶显影液组合物克服了现有显影液配方体系金属离子含量高、显影稳定性差、显影容量不足、容易气泡以及重复使用后容易返粘污染的弊端，通过调节配方中组分和比例调控该体系对不同负性光刻胶的显影效果、显影寿命、显影解析度、对不同衬底或底层金属层的腐蚀抑制性。
主权项：1.一种负性光刻胶显影液组合物，其特征在于，所述负性光刻胶显影液组合物按质量份数包括：脒类化合物0.1～34份、复配增溶剂2～18份、Gemini型表面活性剂0.8～32份、缓冲剂0.1～8份、抗污促进剂0.5～20份、平整调节剂0.4～7份；其中，所述复配增溶剂包括有机酸铵和离子液体。
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权利要求：
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