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一种用于集成电路的正性光刻胶显影液组合物 

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申请/专利权人:福建省佑达环保材料有限公司

摘要:本发明公开了一种用于集成电路的正性光刻胶显影液组合物,属湿电子化学品领域。按质量百分数之和为100%计,所述组合物中各组分及其所占质量百分数为:氢氧化钾0.1‑5%、显影缓冲剂0.1‑2%、非离子型Gemini表面活性剂0.1‑2%,余量为水。本发明中所用非离子型Gemini表面活性剂具有优异的显影性能,能在碱溶液中稳定存在,并可以提高显影液显影能力,保证药液使用寿命,稳定显影速度,且其具有低表面张力、优异的润湿性、低刺激性、易于漂洗等特性,对环境友好,符合环保要求。

主权项:1.一种用于集成电路的正性光刻胶显影液组合物,其特征在于,按质量百分数之和为100%计,所述组合物中各组分及其所占质量百分数为:氢氧化钾0.1-5%、显影缓冲剂0.1-2%、非离子型Gemini表面活性剂0.1-2%,余量为水。

全文数据:

权利要求:

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