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申请/专利权人:佳能特机株式会社
摘要:本发明提供一种能够提高吸引磁铁与掩模的定位精度的对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法。具备:隔着掩模M配置在掩模台23的相反侧的吸引磁铁24;以及进行掩模M与吸引磁铁24的相对的位置调整的位置调整机构29,在对向掩模台23载置的每一个掩模M进行了所述位置调整的状态下将掩模M载置于掩模台23。
主权项:1.一种对准装置,对进行了相对于掩模台的对位的掩模与基板进行对位,其特征在于,具备:吸引磁铁,所述吸引磁铁隔着所述掩模配置在所述掩模台的相反侧;以及位置调整机构,所述位置调整机构进行所述掩模与所述吸引磁铁的相对的位置调整,在对向所述掩模台载置的每一个所述掩模进行了所述位置调整的状态下将所述掩模载置于所述掩模台。
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权利要求:
百度查询: 佳能特机株式会社 对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法
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