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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2007-08-08
公开（公告）日：2009-08-05
公开（公告）号：CN101501238A
专利技术分类：..真空蒸发[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种能避免在有机EL元件等的制造工序中形成的各层的相互污染、且占地面积较小、生产率较高的成膜系统。一种在基板G上成膜的成膜装置13，在处理容器30的内部具有用于形成第1层的第1成膜机构35和用于形成第2层的第2成膜机构36，第1成膜机构35包括：配置于处理容器30的内部的、用于向基板供给成膜材料的蒸气的喷嘴34；配置在处理容器的外部的、用于产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部45；将在蒸气产生部45产生的成膜材料的蒸气输送到喷嘴34的配管46。
专利权项：1.一种成膜装置，用于在基板上成膜，其特征在于，在处理容器内部具有用于形成第1层的第1成膜机构和用于形成第2层的第2成膜机构，上述第1成膜机构包括：配置于上述处理容器内部的、用于向基板供给成膜材料的蒸气的喷嘴；配置于上述处理容器的外部的、用于产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部；用于将在上述蒸气产生部产生的成膜材料的蒸气输送到上述喷嘴的配管。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 成膜装置、成膜系统及成膜方法
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