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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本发明提供一种半导体工艺设备，包括管式工艺腔室，用于容纳载片舟；在管式工艺腔室的轴向上的两端分别设置有进气口和抽气口；原位等离子体源，其设置于管式工艺腔室的排气口所在一侧，并与管式工艺腔室中的载片舟电连接，用于向载片舟加载射频功率，以对载片舟的各相邻的两个舟片之间的沉积物进行刻蚀；远程等离子体源，其设置于管式工艺腔室的进气口所在一侧，用于向管式工艺腔室内提供等离子体，以对载片舟的所有舟片中位于外侧的舟片以及舟脚上的沉积物进行刻蚀。本发明的方案无需拆卸载片舟，而且可以缩短清洗时间，降低清洗成本。
主权项：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括：管式工艺腔室，用于容纳载片舟；在所述管式工艺腔室的轴向上的两端分别设置有进气口和抽气口；原位等离子体源，其设置于所述管式工艺腔室的所述抽气口所在一侧，并与所述管式工艺腔室中的所述载片舟电连接，用于向所述载片舟加载射频功率，以对所述载片舟的各相邻的两个舟片之间的沉积物进行刻蚀；远程等离子体源，其设置于所述管式工艺腔室的所述进气口所在一侧，用于向所述管式工艺腔室内提供等离子体，以对所述载片舟的所有舟片中位于外侧的舟片以及舟脚上的沉积物进行刻蚀。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及载片舟清洗方法
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