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申请/专利权人：恒旸股份有限公司

摘要：本实用新型公开一种光刻制程一贯化系统，该系统包括有多个可前后串接成一条连续制程产线的工作站，每一工作站之间分别设置有机壳、定位校准装置及电连接器，使多个工作站能够可拆装地配合不同规格硅晶圆基板而调整顺序或数量后串接，以连续的方式执行光刻制程，有效克服已知技术机台分散配置与浪费大量人力进行操作和监控的问题，达成提高生产效率、产品良率及节省能源的功效。此外，串接后的多个工作站外部可设置一遮罩，该遮罩内部空间可形成黄光无尘室，可节省空间并且整厂输出，大幅降低半导体产业的门槛，具有非常高的产业价值。

主权项：1.一种光刻制程一贯化系统，其特征在于，该系统设置于一黄光无尘室内，包括能够连续性地对多个硅晶圆基板进行光刻制程的多个工作站，该多个工作站包括依序排列的一控制单元、一自动上胶机组、一第一自动烘烤冷却阵列机组、一自动曝光机组、一自动显定影机组以及一第二自动烘烤冷却阵列机组，其中：该控制单元包含一设置在系统上游端能够识别硅晶圆基板规格的识别单元以及一与该识别单元信号连接的中央控制单元，该中央控制单元预设有多组工作参数，能够选用其中一组适配于该硅晶圆基板规格的工作参数后传送至每一工作站；该自动上胶机组能够将光阻剂均匀平整地分布在该硅晶圆基板表面，其包含一组机械臂以及一上胶工作区，其中该机械臂能够将一进料卡匣内的硅晶圆基板取出，送入该上胶工作区对该硅晶圆基板的正面进行上光阻剂后，将具有光阻剂涂层的硅晶圆基板从该上胶工作区取出，并置入下一工作站；该第一自动烘烤冷却阵列机组包含一烤盘、一机械臂以及一冷却盘，其中该烤盘能够将该具有光阻剂涂层的硅晶圆基板进行烘烤，该机械臂能够将烘烤后硅晶圆基板从该烤盘取出后置入该冷却盘进行冷却，并且将该冷却盘内经过冷却的硅晶圆基板取出后送入下一工作站；该自动曝光机组包含一校准缓冲器以及一曝光工作区，其中该校准缓冲器设置在一输送装置上，能够承载由上述第一自动烘烤冷却阵列机组取出的硅晶圆基板并且进行位置校对，再通过该输送装置将该校准缓冲器上的硅晶圆基板移载到该曝光工作区进行曝光后，由该输送装置将该曝光后的硅晶圆基板往下一工作站输送；该自动显定影机组，包含一组移载装置以及一显定影工作区，该移载装置能够将该硅晶圆基板依序移载置入该显定影工作区进行显影液及洗涤液的喷洒或浸泡后去除，再移载到下一工作站；该第二自动烘烤冷却阵列机组包含一机械臂、一烤盘以及一冷却盘，其中该机械臂能够将显定影后的硅晶圆基板移载至该烤盘烘烤后置入该冷却盘进行冷却后进行收料；以及该自动上胶机组、第一自动烘烤冷却阵列机组、自动曝光机组、自动显定影机组及第二自动烘烤冷却阵列机组，分别在外部设有前后贯通的机壳，且每一机壳与机壳之间的组合位置分别设置有一组相同规格的定位校准装置以及一组电连接器，使每一机组及机壳能够通过相对应的定位校准装置彼此分离以调整位置，或逐一串接及对位而形成一条光刻制程的连续产线，并通过该组电连接器分别接收该中央控制单元所传送的工作参数后，各自执行所述的制程工作。

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