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一种ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜的制备方法 

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申请/专利权人:烟台大学

摘要:本发明公开了一种ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜的制备方法,属于纳米薄膜技术领域,对Ti‑6Al‑4V衬底进行超声清洗后,置于干燥箱内干燥后放入磁控溅射装置的真空腔体内,将ZrNbTiCrCu靶材安装在磁控溅射装置的靶位上;向真空腔体内通入Ar气体,调节工作压强,利用直流电流令ZrNbTiCrCu靶材进行溅射;溅射结束后,将真空腔体冷却至室温,得到ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜。本发明利用磁控溅射技术,在高熵合金薄膜体系中引入Cu元素,制备得到了一种同时兼备优异耐腐蚀性能、生物相容性和抗菌性能的高熵合金薄膜。同时,利用磁控溅射技术制备的高熵合金薄膜通用性极佳,制备过程中基体升温慢,涂层结构致密、性能优异。

主权项:1.一种ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、对Ti-6Al-4V衬底进行超声清洗后,置于干燥箱内干燥;S2、将清洗干燥后的衬底放入磁控溅射装置的真空腔体内,将ZrNbTiCrCu靶材安装在磁控溅射装置的靶位上;S3、向真空腔体内通入Ar气体,调节工作压强,利用直流电流令ZrNbTiCrCu靶材进行溅射;S4、溅射结束后,将真空腔体冷却至室温,得到ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜;步骤S2中,Ti-6Al-4V衬底温度为室温,ZrNbTiCrCu靶材与Ti-6Al-4V衬底的距离为12cm~13cm,真空腔体内的真空度为1.1×10-4Pa;步骤S3中,真空腔体内的工作压强为0.8Pa,溅射电流为0.1A~1.5A,Ar气体的流速为75sccm。

全文数据:

权利要求:

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