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申请/专利权人：PSK公司
摘要：本发明公开一种基板处理装置。该基板处理装置包括：外壳；卡盘，其用于支撑基板；介电板，其与卡盘相隔布置且中间放置有基板；供气单元，其用于提供工艺气体，该工艺气体用于等离子体处理基板边缘区域；保护罩，其覆盖介电板的整个底面且用于保护介电板免受所述等离子体的影响；以及结合单元，其用于从介电板拆卸保护罩。
主权项：1.一种基板处理装置，包括：外壳，其用于定义处理空间；卡盘，其布置于所述处理空间中且用于支撑基板；介电板，其与所述卡盘相隔布置且中间放置有所述基板；下边缘电极，其布置成围绕所述卡盘；上边缘电极，其围绕所述介电板的侧面且布置成与所述下边缘电极相面对；供气单元，其用于提供工艺气体，该工艺气体用于等离子体处理所述基板的边缘区域；保护罩，其覆盖所述介电板的整个底面且能够从所述介电板拆卸，用于保护所述介电板免受所述等离子体的影响；以及结合单元，其用于从所述介电板拆卸所述保护罩。
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