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利用磁控溅射制备包覆粉体的装置及方法 

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申请/专利权人:西安工程大学

摘要:本发明公开了利用磁控溅射制备包覆粉体的装置,包括落粉系统、传送系统、超声振动系统、粉体收集系统以及底座;落粉系统有效控制抽真空时气流对粉体的扰动并且可控制每次镀粉的量;传送系统可把落粉系统落下的粉末传送到指定磁控溅射区域并且可将镀完的粉末输送到粉体收集箱;振动超声系统可实现粉末在溅射镀膜时的翻转滑动,有利于粉体均匀镀膜;本发明还公开了利用磁控溅射制备包覆粉体的方法,与化学法如置换法等方法相比,所得到的膜层厚度均匀,膜与粉体界面结合紧密,同时可通过调节磁控溅射工艺参数精确控制膜层的性能,本发明结构简单,使用方便,成本低廉。

主权项:1.利用磁控溅射制备包覆粉体的装置,其特征在于,包括落粉系统、传送系统、超声振动系统、粉体收集系统以及底座,落粉系统、传送系统、超声振动系统、粉体收集系统均设置于底座上;所述落粉系统包括架设于底座14上的箱体8,箱体8底部均匀开设有若干孔洞,箱体8底部外侧活动连接有打孔滑板4,打孔滑板4与箱体8底部平行且紧靠箱体8底部;所述传送系统包括底座上设于箱体8下方的传送带20;所述超声振动系统包括设置于底座上的超声振动电机12,超声振动电机12位于传送带20的一侧,超声振动电机12连接振动板15,振动板15位于传送带20的底部紧贴传送带20;所述粉体收集系统为设置于传送带20远离箱体8一端的收集箱21;所述底座上位于箱体8的一侧还设有靶材溅射源2,靶材溅射源2位于传送带20上方。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安工程大学 利用磁控溅射制备包覆粉体的装置及方法

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