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用于离子阱装置的氦气控制方法及系统 

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申请/专利权人:国开启科量子技术(北京)有限公司;启科量子技术(珠海)有限公司

摘要:本发明公开了用于离子阱装置的氦气控制方法和系统,所述方法包括:从所述压力传感器接收所述氦气隔振腔内的氦气的气压;响应于所述氦气隔振腔中的氦气的气压超过预设的卸压阈值而控制所述卸压组件释放所述氦气隔振腔中的氦气,直至所述氦气隔振腔中的氦气的气压回落至预设气压范围内为止;响应于所述氦气隔振腔中的氦气的气压低于预设的补气阈值而控制所述补气组件向所述氦气隔振腔内充入氦气,直至所述氦气隔振腔中的氦气的气压上升至预设气压范围内为止。本发明可避免因氦气气压过大而导致隔振失效或者因氦气气压过小而导致导热效果下降,这使得离子阱装置能够始终处于其所需的稳定的低温工作环境下。

主权项:1.一种用于离子阱装置的氦气控制方法,其特征在于,所述氦气控制方法基于氦气控制系统,所述氦气控制系统包括主控模块以及与所述主控模块电气连接的供气组件和卸压组件,所述供气组件和所述卸压组件经由多通接口连接至与用于向所述离子阱装置提供低温环境的氦气减振型低温恒温器中的氦气隔振腔连通的管路,所述管路上设置有用于监测所述氦气隔振腔内的氦气的气压的压力传感器;所述氦气控制方法包括:所述主控模块从所述压力传感器接收所述氦气隔振腔内的氦气的气压;所述主控模块响应于所述氦气隔振腔中的氦气的气压超过预设的卸压阈值而控制所述卸压组件释放所述氦气隔振腔中的氦气,直至所述氦气隔振腔中的氦气的气压回落至预设气压范围内为止;所述主控模块响应于所述氦气隔振腔中的氦气的气压低于预设的补气阈值而控制所述供气组件向所述氦气隔振腔内充入氦气,直至所述氦气隔振腔中的氦气的气压上升至预设气压范围内为止;其中,当所述氦气隔振腔中的氦气的气压处于预设气压范围内时,所述氦气隔振腔中的氦气能够在不发生液化的情况下向所述离子阱装置提供最佳导热效率。

全文数据:

权利要求:

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