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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
主权项：1.一种等离子体处理系统，具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，其中，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制，以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理系统和处理系统
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