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一种曲面基底微纳米结构的高精度制备方法 

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申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

摘要:本发明公开了一种曲面基底微纳米结构的高精度制备方法,属于微纳光学技术领域,主要步骤如下:首先,结合传统光刻技术和有机玻璃的可控面形热弯工艺,制备曲面基底掩膜板;然后,利用接近式紫外曝光技术和等离子刻蚀技术,将微纳米结构传递到曲面基底材料表面;最后,通过测量多个位置微纳米结构的位置偏差和尺寸偏差,校正用于制备曲面基底掩膜板过程中的平面掩膜板图形,提高加工精度;多次重复上述校正步骤,可以实现曲面基底微纳米结构的高精度制备。该方法降低了制备曲面基底表面微纳米结构的技术复杂度和加工成本,提高了加工精度和效率。

主权项:1.一种曲面基底微纳米结构的高精度制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、在有机玻璃材料制成的平行平板表面镀一层金属铝膜,在金属铝膜表面涂覆光刻胶;步骤2、利用紫外光将掩膜板上的微纳米图形复制到光刻胶上;步骤3、显影后,获得光刻胶材料的微纳米图形层;步骤4、湿法腐蚀后,获得铝材料的微纳米图形层;步骤5、去除残余光刻胶,获得表面具有铝材料微纳米结构的有机玻璃材料掩膜板;步骤6、将上述有机玻璃材料掩膜板置于高温烘箱中加热,获得软化的有机玻璃材料掩膜板;步骤7、将加热软化后的有机玻璃材料掩膜板迅速置于曲面底板上,所述曲面底板的上表面面形和目标曲面基底面形一致,具有铝材料微纳米结构的一面朝下,并加盖曲面盖板固定形状,所述曲面盖板的下表面面形和目标曲面基底面形一致;步骤8、冷却后,获得曲面有机玻璃材料掩膜板;步骤9、在曲面基底表面涂覆光刻胶;步骤10、将曲面有机玻璃材料掩膜板置于曲面基底表面,具有铝材料微纳米结构的一面朝下,利用紫外光将曲面掩膜板上的微纳米图形复制到光刻胶上;步骤11、显影后,获得曲面基底的光刻胶材料微纳米图形层;步骤12、利用反应离子刻蚀技术将光刻胶材料的微纳米结构转移到曲面基底材料表面,获得曲面基底表面微纳米结构器件。

全文数据:

权利要求:

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