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申请/专利权人：YC化学制品株式会社
摘要：本发明涉及一种用于在抑制氧化铝膜及氧化硅膜的蚀刻的同时蚀刻钼膜及变性钼膜的蚀刻液组合物及其蚀刻方法，其特征在于，相对于组合物的总重量，所述蚀刻液组合物由0.1至10重量％的无机酸、0.001至5重量％的氧化剂、0.001至3重量％的氟化合物、2至4重量％的pH调节剂、0.0001至2重量％的添加剂、及余量的水构成。
主权项：1.一种用于在抑制氧化铝膜及氧化硅膜的蚀刻的同时蚀刻钼膜及变性钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述蚀刻液组合物包括无机酸、氧化剂、氟化合物、pH调节剂、添加剂、及水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： YC化学制品株式会社 灵敏度及图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物
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