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申请/专利权人：安徽碳索芯材科技有限公司
摘要：本实用新型涉及一种通过感应加热线圈进行微区控温的MPCVD基台装置，包括反应炉体、原料气体进口、气体出口、微波发射线圈和等离子体，所述等离子体下方设置有晶种托盘，所述晶种托盘放置在基台的上端面，所述晶种托盘与所述基台的接触面下方设置有若干环形控温水槽，所述控温水槽为封闭状态且设置有进水口和出水口，所述进水口和所述出水口向下延伸出所述反应炉体，相邻的所述控温水槽之间形成温度分区，所述温度分区内设置有若干微型感应加热线圈。本实用新型能够解决晶种托盘上方的等离子体为椭球型，导致其对晶种托盘各个部位的加热速率不一致的问题，这样实现高温下分区温度的精准控制，对晶体生长的成品率有显著提升效果。
主权项：1.一种通过感应加热线圈进行微区控温的MPCVD基台装置，包括反应炉体（10）、原料气体进口（11）、气体出口（12）、微波发射线圈（13）和等离子体（14），所述反应炉体（10）顶部设置有原料气体进口（11）和气体出口（12），所述等离子体（14）通过所述微波发射线圈（13）产生在所述反应炉体（10）的内部空腔中，其特征在于：所述等离子体（14）下方设置有晶种托盘（6），所述晶种托盘（6）放置在基台（7）的上端面，所述晶种托盘（6）与所述基台（7）的接触面下方设置有若干环形控温水槽（1），所述控温水槽（1）为封闭状态且设置有进水口（2）和出水口（3），所述进水口（2）和所述出水口（3）向下延伸出所述反应炉体（10），相邻的所述控温水槽（1）之间形成温度分区（4），所述温度分区（4）内设置有若干微型感应加热线圈（5）。
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权利要求：
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