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申请/专利权人：龙焱能源科技(杭州)有限公司
摘要：本发明涉及沉积技术领域，公开了连续沉积装置及连续沉积系统。其中，连续沉积装置包括基座、输送机构、坩埚和加热件，输送机构用于传送基板，坩埚设于基座上并位于输送机构的上方，坩埚内设有容纳腔和与容纳腔连通的流通通道，容纳腔内适于装入沉积源，坩埚的底部设有至少一个喷嘴，喷嘴与流通通道连通且用于向基板的沉积面喷涂气态的沉积源，加热件设于坩埚上，用于加热所述坩埚。本发明将坩埚的喷嘴设置在基板沉积面的上方，在沉积的过程中，坩埚内的沉积源升华后从喷嘴喷出，从上至下对基板沉积面进行沉积，基板沉积面与输送机构无直接接触，且输送机构对基板的底部进行支撑，避免高温下的基板变形，提高了基板沉积膜层的质量和均匀性。
主权项：1.一种连续沉积装置，其特征在于，包括：基座（1）；输送机构（2），用于传送基板（3）；坩埚（4），设于所述基座（1）上并位于所述输送机构（2）的上方，所述坩埚（4）内设有容纳腔（401）和与所述容纳腔（401）连通的流通通道（402），所述容纳腔（401）内适于装入沉积源（5），所述坩埚（4）的底部设有至少一个喷嘴（403），所述喷嘴（403）与所述流通通道（402）连通且用于向基板（3）的沉积面喷涂气态的沉积源（5）；加热件（6），设于所述坩埚（4）上，用于加热所述坩埚（4）；所述坩埚（4）底部朝向所述容纳腔（401）方向内凹形成凹槽（404），由所述凹槽（404）的槽壁与所述坩埚（4）的侧壁形成所述流通通道；所述加热件（6）设于所述坩埚（4）的外表面和所述凹槽（404）的槽底与槽壁。
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权利要求：
百度查询： 龙焱能源科技(杭州)有限公司 连续沉积装置及连续沉积系统
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