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申请/专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积装置及方法。其中，薄膜沉积装置包括腔体，所述腔体包括第一腔室和第二腔室，所述薄膜沉积装置还包括：第一调压组件，所述第一调压组件包括第一调压管路，所述第一调压管路与所述第一腔室的排气口连接，用于对所述第一腔室进行调压；第二调压组件，所述第二调压组件包括第二调压管路，所述第二调压管路与所述第二腔室的排气口连接，用于对所述第二腔室进行调压。本发明通过第一调压管路和第二调压管路分别对第一腔室和第二腔室进行调压，从而确保了双侧腔室内的压力恒定，提升了薄膜厚度的均匀性。
主权项：1.一种薄膜沉积装置，包括腔体，所述腔体包括第一腔室和第二腔室，其特征在于，所述薄膜沉积装置还包括：第一调压组件，所述第一调压组件包括第一调压管路，所述第一调压管路与所述第一腔室的第一排气口连接，用于对所述第一腔室进行调压；第二调压组件，所述第二调压组件包括第二调压管路，所述第二调压管路与所述第二腔室的第二排气口连接，用于对所述第二腔室进行调压。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 薄膜沉积装置及方法
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