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申请/专利权人：华南理工大学
摘要：本发明公开了一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法，属于气体分离膜制备技术领域。本发明首先以硅源、模板剂和水为原料制备沸石前驱体，然后利用羧酸对含模板剂的沸石前驱体进行改性，得到无模板剂的沸石前驱体，再利用该无模板剂的沸石前驱体作为无机填料制备混合基质膜，层状沸石前驱体表面具有比常规沸石更加丰富的羟基基团，便于与聚合物结合，这些羟基基团在低温加热引发交联反应过程中与聚合物相互作用，有效解决填料与聚合物之间的相容性问题，得到高性能的无缺陷沸石分子筛基混合基质膜。
主权项：1.一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：将硅源、模板剂和水混合，得到混合溶液；对所述混合溶液进行搅拌老化，水热反应，得到沸石前驱体；利用羧酸对所述沸石前驱体进行改性，得到无模板剂的沸石前驱体；将所述无模板剂的沸石前驱体与聚合物以及溶剂混合，制备混合基质膜；对所述混合基质膜进行低温加热引发交联反应，得到所述无缺陷沸石分子筛基混合基质膜。
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权利要求：
百度查询： 华南理工大学 一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法
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