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封装结构的形成方法 

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申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

摘要:本发明提供一种封装结构的形成方法包括:提供基板,基板包括中心区和围绕中心区的边缘区,中心区表面暴露出电连接层;在边缘区的表面形成加强环;提供待封装芯片结构,待封装芯片结构具有第一功能面,第一功能面表面具有焊球;将待封装芯片结构置于中心区表面,使第一功能面朝向中心区表面,且焊球与电连接层相接触;采用第一回流焊使待封装芯片结构与基板相互电连接;能够有效提升最终形成的封装结构的性能,降低基板的翘曲。

主权项:1.一种封装结构的形成方法,其特征在于,包括:提供基板,所述基板包括中心区和围绕所述中心区的边缘区,所述中心区表面暴露出电连接层;在所述边缘区的表面形成加强环;提供待封装芯片结构,所述待封装芯片结构具有第一功能面,所述第一功能面表面具有焊球;将所述待封装芯片结构置于所述中心区表面,使所述第一功能面朝向所述中心区表面,且所述焊球与所述电连接层相接触;采用第一回流焊使所述待封装芯片结构与所述基板相互电连接。

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