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申请/专利权人：腾讯科技(深圳)有限公司
摘要：本申请公开了一种掩膜版图确定模型的训练、掩膜版图的确定方法及装置，属于集成电路技术领域。方法包括：通过神经网络模型确定样本芯片版图的预测掩膜版图；通过第一晶圆版图确定模型确定预测掩膜版图的第一晶圆版图，第一晶圆版图确定模型包括实际光刻工艺参数；通过标注掩膜版图、预测掩膜版图、样本芯片版图和第一晶圆版图，对神经网络模型进行训练，得到掩膜版图确定模型，掩膜版图确定模型用于确定目标芯片版图的目标掩膜版图。提高了目标掩膜版图的质量，使得在实际光刻工艺参数的条件下，基于目标掩膜版图能够得到与目标芯片版图高度相似的晶圆版图。
主权项：1.一种掩膜版图确定模型的训练方法，其特征在于，所述方法包括：获取标注掩膜版图和样本芯片版图，所述标注掩膜版图是在基准光刻工艺参数的条件下确定的所述样本芯片版图的掩膜版图；通过神经网络模型确定所述样本芯片版图的预测掩膜版图；通过第一晶圆版图确定模型确定所述预测掩膜版图的第一晶圆版图，所述第一晶圆版图确定模型包括实际光刻工艺参数；通过所述标注掩膜版图、所述预测掩膜版图、所述样本芯片版图和所述第一晶圆版图，对所述神经网络模型进行训练，得到掩膜版图确定模型，所述掩膜版图确定模型用于确定目标芯片版图的目标掩膜版图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 腾讯科技(深圳)有限公司 掩膜版图确定模型的训练、掩膜版图的确定方法及装置
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