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申请/专利权人:成都理工大学
摘要:一种光催化合成硫修饰石墨烯量子点S‑GQDs的方法,主要利用紫外光照能使GQDs吸收能量后产生光生电子e‑和电子空穴h+,产生的电子空穴h+能将溶液中O2和H2O分子氧化成活性氧物质,随后与溶液中二甲基亚砜作用,逐渐将二甲基亚砜氧化成‑SOx与‑CH3O3S,并沉积于GQDs的表面,使GQDs表面具有含硫基团,从而合成S‑GQDs。该方法具有可控性强,光催化反应条件温和等优点。制备的S‑GQDs量子产率高、稳定性好、抗干扰性强,在光学传感和成像领域具有良好的应用前景。
主权项:1.一种光催化合成硫修饰石墨烯量子点S-GQDs的方法,其主要以石墨烯量子点(GQDs)为光催化反应前驱体、二甲基亚砜为硫源、通过紫外光照光敏合成S-GQDs,其特征在于按以下几个步骤进行:在200℃油浴条件下,加热无水柠檬酸融化至橙红色。再将橙红色液体滴加到NaOH溶液中,并伴随着剧烈搅拌,最后调节pH、透析,得到GQDs水溶液;取制备好的GQDs水溶液与二甲基亚砜混合在烧杯中,将其置于紫外光源下光照并搅拌,反应一定时间后得到S-GQDs混合溶液;将反应后的S-GQDs混合液进行透析处理,以除去未反应完的二甲基亚砜;透析后的溶液经旋转蒸发、冷冻干燥后得到S-GQDs固体。
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