首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

光诱导氮化硅腐蚀浆料及其制备方法、应用、氮化硅开槽方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:环晟光伏(江苏)有限公司

摘要:本发明提供了一种光诱导氮化硅腐蚀浆料及其制备方法、应用、氮化硅开槽方法,涉及太阳能电池制造的技术领域,该腐蚀浆料包括按质量份数计的以下组分:氮化硅腐蚀剂2‑10份、硅粉20‑70份、金属5‑20份,以及有机溶剂8‑20份;其中,氮化硅腐蚀剂包括以下组分:SiO210%‑20%、Bi2O35%‑25%、ZnO1%‑10%、PbO5%‑30%、Al2O31%‑10%,以及TeO23%‑30%;金属包括银、镍和钛中的至少一种。本发明解决了现有的电池片电镀工艺在氮化硅开槽时,精度差、能耗高以及Uoc损失大的技术问题,达到了显著提高氮化硅开槽精度、有效减少Uoc损失以及节能减排的技术效果。

主权项:1.一种光诱导氮化硅腐蚀浆料,其特征在于,包括按质量份数计的以下组分:氮化硅腐蚀剂2-10份、硅粉20-70份、金属5-20份,以及有机溶剂8-20份;所述氮化硅腐蚀剂包括按质量百分比计的以下组分:SiO210%-20%、Bi2O35%-25%、ZnO1%-10%、PbO5%-30%、Al2O31%-10%,以及TeO23%-30%;所述金属包括银、钛和镍中的至少一种。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 环晟光伏(江苏)有限公司 光诱导氮化硅腐蚀浆料及其制备方法、应用、氮化硅开槽方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。