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申请/专利权人：应用材料公司;新加坡国立大学
摘要：描述了在基板上选择性沉积膜的方法。钝化膜在介电材料的沉积之前沉积在金属表面上。还描述了将包含金属表面和介电表面的基板表面暴露于对接前驱物以形成钝化膜。
主权项：1.一种在基板上选择性沉积膜的方法，所述方法包含：将包括金属表面和介电表面的基板表面暴露于对接前驱物；和选择性地将所述对接前驱物沉积在所述金属表面上以形成对接层，其中所述对接前驱物是具有选择性地与所述金属表面反应和结合的头部基团的芳烃，其中所述对接层的所述对接前驱物进一步进行聚合以形成钝化膜，并且所述聚合是在催化剂存在下与链单体重复1至1000次，并且其中每次聚合包括相同的链单体或交替的至少两种链单体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 新加坡国立大学 在金属表面上选择性沉积钝化膜
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