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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种基座组件和薄膜沉积腔室，通过相嵌合的定位凸起和定位凹陷，且由于定位凸起是与遮挡环和加热盘的其中一者一体形成的，因此遮挡环和加热盘之间仅通过一次定位，公差配合小，定位效果好，而且由于定位凸起和定位凹陷均为至少两个，因此可以起到防止遮挡环相对于加热盘发生径向偏移或者周向转动的效果，对中定位效果好。
主权项：1.一种基座组件，其特征在于，包括加热盘10以及位于所述加热盘10用于承载晶圆40一侧的遮挡环20，所述遮挡环20和所述加热盘10的其中一者形成有一体的至少两个定位凸起21，另一者形成有至少两个定位凹陷11，每个所述定位凸起21与一个所述定位凹陷11相嵌合。
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百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 基座组件和薄膜沉积腔室
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