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套刻标记、光学像差评价方法、套刻标记质量评价方法、套刻测量装置及方法以及半导体器件的制造方法 

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申请/专利权人:奥路丝科技有限公司

摘要:本发明涉及一种套刻标记,更详细地,涉及一种用于测量多个层之间的一侧方向的套刻误差的套刻标记。本发明提供一种用于测量一维套刻误差的套刻标记,其决定多个层之间的第一方向上的套刻误差,所述用于测量一维套刻误差的套刻标记包括:四个配置区域组,其由被经过对准的所述套刻标记的中心的沿所述第一方向延伸的轴、沿与所述第一方向正交的第二方向延伸的轴以及一对对角线分成八个的八个配置区域中呈180度旋转对称的配置区域对组成;以及图案元素,其沿所述第一方向配置于构成每个所述配置区域组的每个所述配置区域,相同的所述配置区域组中包括的所述配置区域形成在相同的层上,配置于相同的所述配置区域组的所述图案元素呈180度旋转对称。

主权项:1.一种用于测量一维套刻误差的套刻标记,其决定多个层之间的第一方向上的套刻误差,所述用于测量一维套刻误差的套刻标记的特征在于,包括:四个配置区域组,其由被经过对准的所述套刻标记的中心的沿所述第一方向延伸的轴、沿与所述第一方向正交的第二方向延伸的轴以及一对对角线分成八个的八个配置区域中呈180度旋转对称的配置区域对组成;以及图案元素,其沿所述第一方向配置于构成每个所述配置区域组的每个所述配置区域,相同的所述配置区域组中包括的所述配置区域形成在相同的层上,配置于相同的所述配置区域组的所述图案元素呈180度旋转对称。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 奥路丝科技有限公司 套刻标记、光学像差评价方法、套刻标记质量评价方法、套刻测量装置及方法以及半导体器件的制造方法

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