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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本申请案的实施方式大体上涉及耦接到至少一个气相外延腔室的转移腔室及耦接至转移腔室的等离子体氧化物移除腔室，等离子体氧化物移除腔室包括具有混合腔室及气体分配器的盖组件；穿过盖组件的一部分形成并与混合腔室流体连通的第一气体入口；穿过盖组件的一部分形成并与混合腔室流体连通的第二气体入口；穿过盖组件的一部分形成并与混合腔室流体连通的第三气体入口；及具有基板支撑表面的基板支撑件；升降构件，所述升降构件设置在基板支撑表面的凹槽中且经由基板支撑件耦接至升降致动器；及耦接至传送腔室的装载锁定腔室。
主权项：1.一种处理系统，包括：传送腔室，所述传送腔室耦接至至少一个膜形成腔室；耦接至所述传送腔室的腔室，所述腔室包括盖组件，所述盖组件包括：中央入口，所述中央入口与形成在所述盖组件中的圆锥形腔室流体连通；形成在所述盖组件中的混合腔室，所述混合腔室经由中央导管与所述圆锥形腔室流体连通；气体分配板，所述气体分配板与所述混合腔室流体连通，其中所述混合腔室包括侧壁，所述侧壁从所述中央导管到所述气体分配板向内成锥形；以及多个入口，所述多个入口形成在所述盖组件中，与所述混合腔室流体连通并定位在所述圆锥形腔室和所述气体分配板之间，所述多个入口的每个适于将独立的处理气体输送到所述混合腔室。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 集成外延与预清洁系统
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