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镀膜设备 

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申请/专利权人:极电光能有限公司

摘要:本实用新型涉及钙钛矿电池制造技术领域,尤其是涉及一种镀膜设备。所述镀膜设备,包括:靶锭、电子束模块、平衡板系统和通气装置;平衡板系统至少包括间隔设置的两片平衡板,平衡板均包括多个贯穿板面的孔洞,相邻两片平衡板的孔洞的正投影不重叠,平衡板系统设置于离子态待沉积材料的沉积路径上。该镀膜设备可以在一定程度上提高镀膜层的厚度均匀性和方阻均匀性,可以降低腔室的维护难度及维护成本。

主权项:1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:靶锭,所述靶锭用于被轰击后产生离子态待沉积材料;电子束模块,所述电子束模块用于产生轰击所述靶锭的电子束;平衡板系统,所述平衡板系统至少包括间隔设置的两片平衡板,所述平衡板均包括多个贯穿板面的孔洞,相邻两片平衡板的孔洞的正投影不重叠,所述平衡板系统设置于所述离子态待沉积材料的沉积路径上;通气装置,所述通气装置用于在所述离子态待沉积材料进入或通过所述平衡板系统之后,提供用于与所述离子态待沉积材料反应生成待沉积材料的离子态气体。

全文数据:

权利要求:

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