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申请/专利权人：三井化学株式会社
摘要：本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件100具有：防护膜101；支撑上述防护膜的支撑框103；设置于上述支撑框的突起部105；设置于上述突起部的第1粘接层107；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层109，上述第1无机物层109设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面121。
主权项：1.一种防护膜组件，其具有：防护膜；支撑所述防护膜的支撑框；设置于所述支撑框的突起部；设置于所述突起部的第1粘接层；以及无机物层，所述无机物层与所述第1粘接层相比设置在所述防护膜所处的一侧，所述无机物层的厚度为50nm以上1μm以下，所述无机物层包含第1无机物层，所述第1无机物层设置于所述第1粘接层中作为与所述防护膜交叉的方向的侧面的、所述防护膜所处一侧的第1侧面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三井化学株式会社 防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法
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