龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：武汉新芯集成电路股份有限公司
摘要：本发明提供了一种OPC修正方法，所述OPC修正方法包括：提供至少两个不同的基底结构，所述不同的基底结构具有不同的反射率；根据每一个基底结构形成相应的OPC模型；以及，对于待执行光刻工艺的晶圆，根据所述待执行光刻工艺的晶圆的反射率，选取相应的OPC模型进行OPC修正，由此，在OPC模型的形成和利用过程中，均考虑到了晶圆的反射率，从而能够使得OPC模型对于掩膜版的修正适应晶圆的需要，提高了OPC修正方法的修正效果的稳定性。
主权项：1.一种OPC修正方法，其特征在于，所述OPC修正方法包括：提供至少两个不同的基底结构，所述不同的基底结构具有不同的反射率；根据每一个基底结构形成相应的OPC模型；以及，对于待执行光刻工艺的晶圆，根据所述待执行光刻工艺的晶圆的反射率，选取相应的OPC模型进行OPC修正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉新芯集成电路股份有限公司 OPC修正方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号