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申请/专利权人：北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
摘要：本发明公开了一种纹路识别基板及其制作方法，纹路识别基板包括：衬底、线路层、SiNx叠层和光电二极管。线路层位于衬底的一侧。SiNx叠层位于线路层背离衬底的一侧。光电二极管位于SiNx叠层背离线路层的一侧。光电二极管通过贯穿SiNx叠层的第一过孔与线路层的线路连接。其中沿远离衬底的方向，SiNx叠层中Si的质量分数具有先减小后增加的趋势。SiNx叠层的表面层的硅含量较高，膜质较为致密，从而可以减小SiNx叠层的背离衬底的一侧的表面缺陷，从而避免由于SiNx叠层的表面缺陷引起的后续形成在SiNx叠层之上的其他膜层的不良，提高产品良率。
主权项：1.一种纹路识别基板，其特征在于，包括：衬底；线路层，位于所述衬底的一侧；SiNx叠层，位于所述线路层背离所述衬底的一侧；光电二极管，位于所述SiNx叠层背离所述线路层的一侧；所述光电二极管通过贯穿所述SiNx叠层的第一过孔与所述线路层的线路连接；其中沿远离所述衬底的方向，所述SiNx叠层中Si的质量分数具有先减小后增加的趋势。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京京东方光电科技有限公司 京东方科技集团股份有限公司 一种纹路识别基板及其制作方法
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