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AF真空蒸发镀膜装置 

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申请/专利权人:广东谛思纳为新材料科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种AF真空蒸发镀膜装置及方法,包括喷镀组件、步进组件、平移组件以及真空腔;平移组件沿第一轴向设置于真空腔内;步进组件沿第二轴向设置于真空腔内;喷镀组件于平移组件以及步进组件的上方与平移组件以及步进组件正对设置;步进组件的顶端以及平移组件的顶端均可搭载基片;步进组件可带动基片沿第一轴向运动;平移组件可带动基片沿第二轴向运动;第一轴向与第二轴向垂直,且步进组件与平移组件交替带动基片运动;当基片被平移组件带动运动时,喷镀组件向基片进行喷镀。由于步进组件和平移组件交替运作,基片可以有规律的形式进行运动,进而保证喷镀的均匀性,防止同一位置的重复喷镀,有效提升了最终镀膜成品的质量。

主权项:1.一种AF真空蒸发镀膜装置,其特征在于,包括喷镀组件、步进组件、平移组件以及真空腔;所述平移组件沿第一轴向设置于所述真空腔内;所述步进组件沿第二轴向设置于所述真空腔内;所述喷镀组件于所述平移组件以及所述步进组件的上方与所述平移组件以及所述步进组件正对设置;所述步进组件的顶端以及所述平移组件的顶端均可搭载基片;所述步进组件可带动所述基片沿所述第一轴向运动;所述平移组件可带动所述基片沿所述第二轴向运动;所述第一轴向与所述第二轴向垂直,且所述步进组件与所述平移组件交替带动所述基片运动;当所述基片被所述平移组件带动运动时,所述喷镀组件向所述基片进行镀膜。

全文数据:

权利要求:

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