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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
摘要:本发明提供能够调节从处理容器排出的气体的流量的基片处理装置。基片处理装置包括:处理容器主体,其能够收纳保持基片的基片保持件;设置于上述处理容器主体的侧壁的气体排气室;从上述气体排气室在水平方向上延伸的排气侧配管;以及配置在上述气体排气室和上述排气侧配管的可拆装的排出器。
主权项:1.一种基片处理装置,其特征在于,包括:处理容器主体,其能够收纳保持基片的基片保持件;设置于所述处理容器主体的侧壁的气体排气室;从所述气体排气室在水平方向上延伸的排气侧配管;以及配置在所述气体排气室和所述排气侧配管的可拆装的排出器。
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权利要求:
百度查询: 东京毅力科创株式会社 基片处理装置
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