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机台曝光稳定装置 

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申请/专利权人:粤芯半导体技术股份有限公司

摘要:本申请公开了一种机台曝光稳定装置,该机台曝光稳定装置包括发光模组和机台模组,其中,发光模组包括一第一发光器件;机台模组包括若干光刻机,若干光刻机均由第一发光器件提供光源。本方案可以降低不同光刻机进行光刻工艺时的差异性。

主权项:1.一种机台曝光稳定装置,其特征在于,包括:发光模组,所述发光模组包括一第一发光器件;机台模组,所述机台模组包括若干光刻机,若干所述光刻机均由所述第一发光器件提供光源;光强调整模组,所述光强调整模组设置于所述发光模组和所述机台模组之间,所述光强调整模组包括若干光强调整组件,每一个所述光强调整组件对应一个所述光刻机;所述光强调整组件包括光强调整单元和光强检测单元,所述光强调整单元用于对所述第一发光器件发射的光源进行调整,所述光强检测单元用于对经过所述光强调整单元调整后的光源进行光强检测;所述光强调整单元与所述光强检测单元电连接,所述光强检测单元用于对光强未到达阈值的光源进行阻挡,并返回一电信号至所述光强调整单元,所述光强调整单元用于当接收到所述电信号时,重新对光源进行调整,以使照射到所述光刻机的光强达到阈值,以保证每一个所述光刻机的光强均一性。

全文数据:

权利要求:

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