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用于模型校准的改进量规选择 

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申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

摘要:本文中描述了用于量规选择的方法900。可以在校准与图案化过程相关联的过程模型时使用进行量规选择的方法。所述方法900涉及,在P902处,获得输入量规902的集合,所述输入量规的集合具有与所述图案化过程相关联的一个或更多个形状例如,量规名称、权重、剂量、焦距、模型误差等;在P904处,从初始量规的集合902选择初始量规的子集904,选择初始量规的子集包括:基于所述一个或更多个形状的第一性质参数,从初始量规的集合确定量规的第一子集,量规的所述第一子集被配置成校准过程模型例如,光学模型、抗蚀剂模式,等等。

主权项:1.一种计算机程序产品,包括非暂时性计算机可读介质,所述非暂时性计算机可读介质上记录有在由计算机执行时实施用于在对与图案化过程相关联的过程模型进行校准时进行量规选择的方法的指令,所述方法包括:获得具有与所述图案化过程相关联的一个或多个性质的输入量规的集合;从输入量规的集合选择初始量规的子集,选择初始量规的子集包括:基于所述一个或多个性质的第一性质参数,从所述输入量规的集合确定量规的第一子集,量规的所述第一子集具有所述第一性质参数,其中所述第一性质参数是模型误差,其中所述模型误差用以校准过程模型。

全文数据:

权利要求:

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