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申请/专利权人：方天成
摘要：本发明提供一种均匀化等离子溶胶发生方法，涉及等离子溶胶技术领域。该种一种均匀化等离子溶胶发生方法，本发明的主要实现机制是通过将等离子发生场或者是电极结构或者电离材料及其结构进行微纳米化以及溶胶化，使该溶胶在空间分布上较为均匀，并且对该溶胶内部实施一个统一的电离能，通过材料的自身的传导，使材料在三维空间上各束所施加的电离场均匀，从而使该空间内的等离子体基本上处于同一个能级；本发明提供了综合的、系统性的方法来设计和优化等离子体自身的分布特性，对提升等离子体在应用时的整体性能具有重要意义，有助于等离子体在等离子体隐身、等离子体发光、等离子光源等工业中得到更好地应用。
主权项：1.一种均匀化等离子溶胶发生方法，包括电离场元件，其特征在于：所述电离场元件经由气凝胶化处理而得到，且所述电离场元件连接有气凝胶骨架，所述气凝胶骨架内部导电；所述电离场元件通过与外部的电离场配合而使局部区域具有较为均匀的等离子电离场。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 方天成 一种均匀化等离子溶胶发生方法
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