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申请/专利权人：中国核电工程有限公司

摘要：本申请属于放化实验室分析领域，公开了一种放化实验室厂房，包括地下一层和地上三层，地下一层设置有分析废液设备室、真空动力间、橙区排风机房和红区排风机房，地上一层设置有分析热室线、高放自动分析间、自动分析数据间、热室操作间和质谱分析间，地上二层设置有换向器间、产品粉末分析间、中放工艺分析间、中放无损分析间、中放γ吸收分析间、ICP‑OES分析间和中放γ分析间，地上三层设置有低放工艺分析间、总放射性分析间、α能谱分析间、样品制源间、低本底αβ分析间和液闪分析间。本申请厂房的布置方法，满足工艺样品分析需求，减少运行过程中的人员辐射，便于设备操作及检维修，保证实验室的安全、稳定、高效运行。

主权项：1.一种放化实验室厂房，其特征在于，包括地下一层和地上三层，所述地下一层设置有分析废液设备室、真空动力间、橙区排风机房和红区排风机房，地上一层设置有分析热室线、高放自动分析间、自动分析数据间、热室操作间和质谱分析间，地上二层设置有换向器间、产品粉末分析间、中放工艺分析间、中放无损分析间、中放γ吸收分析间、ICP-OES分析间、产品库仑分析间和中放γ分析间，地上三层设置有低放工艺分析间、总放射性分析间、α能谱分析间、样品制源间、低本底αβ分析间和液闪分析间，所述分析废液设备室设置于所述分析热室线的正下方，所述高放自动分析间和所述自动分析数据间进行分区设置，仪器本体布置在橙区的所述高放自动分析间，将控制系统及计算机布置在绿区的所述自动分析数据间，所述仪器本体和所述控制系统及计算机之间通过电缆相连，所述电缆穿墙的位置采用密封胶密封，所述分析热室线包括多个热室，所述热室的两侧分别设置有混合K边界屏蔽小室和多元素分析屏蔽小室，所述混合K边界屏蔽小室的一侧设置有混合K边界分析间，所述混合K边界屏蔽小室和所述混合K边界分析间设置有混合K边界密度仪，其中，所述混合K边界密度仪的进样部件布置在所述混合K边界屏蔽小室内，所述混合K边界密度仪的测量部件布置在所述混合K边界分析间内，所述混合K边界密度仪的投样部件和测量部件通过自动传输通道连接，所述测量部件的外侧包裹有屏蔽体，所述多元素分析屏蔽小室的一侧设置有ICP-OES分析间，所述多元素分析屏蔽小室和所述ICP-OES分析间设置有ICP-OES分析仪，其中，所述ICP-OES分析仪的进样部件布置在所述多元素分析屏蔽小室内，所述ICP-OES分析仪的测量部件布置在所述ICP-OES分析间内，所述ICP-OES分析仪的进样部件和测量部件通过光路连接，所述分析热室线的两侧分别为绿区热室操作间和橙区检修区，所述分析热室线上方为橙区检修区，所述分析热室线的仪器控制部件设置在所述绿区热室操作间，与放射性样品直接接触的部件设置在所述分析热室线的热室内，所述产品粉末分析间、中放工艺分析间和产品库仑分析间相邻布置且共用一个橙区检修间。

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