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申请/专利权人：江苏天问新材料科技有限公司
摘要：本申请涉及氟聚物的技术领域，具体公开了一种还原低分子量氟聚物中PFAS的方法。还原低分子量氟聚物中PFAS的方法包括以下步骤：S1、混合：将高分子量氟聚物与自由基淬灭剂均匀混合，得到预混物；S2、裂解：将预混物置于辐照处理设备中，辐照处理，得到含自由基淬灭剂的裂解产物；S3、淬灭剂处理：将含自由基淬灭剂的裂解产物经萃取、固液分离、洗涤、过滤、干燥等得到淬灭剂回收料以及中间产物；S4、粉碎：对中间产物进行微粉化处理，得到低分子量氟聚物。本申请中自由基淬灭剂的后处理工艺不但实现了淬灭剂的回收再利用，同时将低分子量氟聚物中淬灭剂的含量显著降低至ppm级。
主权项：1.一种还原低分子量氟聚物中PFAS的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、混合：将高分子量氟聚物与自由基淬灭剂均匀混合，得到预混物；S2、裂解：将预混物置于辐照处理设备中，辐照处理，得到含自由基淬灭剂的裂解产物；S3、淬灭剂处理：将含自由基淬灭剂的裂解产物经萃取、固液分离、洗涤、过滤、干燥等得到淬灭剂回收料以及中间产物；S4、粉碎：对中间产物进行微粉化处理，得到低分子量氟聚物；所述自由基淬灭剂包括气态自由基淬灭剂、液态自由基淬灭剂、固态自由基淬灭剂以及淬灭剂回收料中的至少一种，所述自由基淬灭剂为环境友好型自由基淬灭剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏天问新材料科技有限公司 一种还原低分子量氟聚物中PFAS的方法
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