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申请/专利权人：华芯程(杭州)科技有限公司
摘要：本发明涉及光学邻近修正领域，特别是涉及一种改善金属线端点光刻工艺窗口的OPC方法及装置，通过接收待处理版图；在所述待处理版图中确定待处理线端组；所述待处理线端组包括两个间距不满足掩膜版规则的待调线端，且所述待调线端对应的临边至少包括两个OPC分段；根据所述待处理线端组确定两个所述待调线端各自对应的临边最近OPC分段；将所述临边最近OPC分段向对应的待调线端的图形内方向分别移动对应的调整距离，得到修正版图；所述修正版图中的临边最近OPC分段的位置不能移动。本发明分别将两待调线端最靠近对面的待调线端的OPC分段向图形内方向移动，实现两线端角对角的间距增加，满足了掩膜版规则的限制。
主权项：1.一种改善金属线端点光刻工艺窗口的OPC方法，其特征在于，包括：接收待处理版图；在所述待处理版图中确定待处理线端组；所述待处理线端组包括两个间距不满足掩膜版规则的待调线端，且所述待调线端对应的临边至少包括两个OPC分段；根据所述待处理线端组确定两个所述待调线端各自对应的临边最近OPC分段；将所述临边最近OPC分段向对应的待调线端的图形内方向分别移动对应的调整距离，得到修正版图；所述修正版图中的临边最近OPC分段的位置不能移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华芯程(杭州)科技有限公司 一种改善金属线端点光刻工艺窗口的OPC方法及装置
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