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申请/专利权人：深圳市新凯来工业机器有限公司
摘要：一种工艺组件和半导体设备，涉及半导体相关技术领域，工艺组件包括加热件、固定件和反射件，加热件用于加热晶圆；固定件具有固定面，固定面用于固定晶圆；反射件位于固定件背离加热件的一侧，反射件具有反射面，反射面为反射件朝向固定面一侧的外侧面，反射面与固定面之间具有第一距离，第一距离为反射面与固定面之间的平均距离，第一距离在0.5毫米至10毫米之间。本申请提供的工艺组件能够加热晶圆，反射面与固定面之间的距离设置在0.5毫米至10毫米之间，能够加快晶圆的散热效率，缩短T‑50℃驻留时间，提升半导体产品的性能。
主权项：1.一种工艺组件，用于加热半导体设备中的晶圆，其特征在于，包括：加热件，用于加热所述晶圆；固定件，具有固定面，所述固定面用于固定所述晶圆；反射件，位于所述固定件背离所述加热件的一侧，所述反射件具有反射面，所述反射面为所述反射件朝向所述固定面一侧的外侧面，所述反射面与所述固定面之间具有第一距离，所述第一距离为所述反射面与所述固定面之间的平均距离，所述第一距离在0.5毫米至10毫米之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市新凯来工业机器有限公司 工艺组件和半导体设备
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