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流体处理装置及其制备工艺 

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申请/专利权人:苏州苏瑞膜纳米科技有限公司

摘要:本专利公开了一种流体处理的装置及其制备工艺,装置包括:具有流体通道的基体,流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面,以及复数根线形体的聚集体,用以对流经所述流体通道的、混杂有选定颗粒的流体进行处理,复数根线形体彼此间隔设置并平行排布形成所述多孔结构;聚集体分布于流体通道内,多孔结构内孔洞的直径大于0但小于选定颗粒的粒径;线形体的局部或全部表面及基体的局部或全部表面设置合适低表面能物质形成的涂层,或直接利用疏水材料形成线形体、基体。本申请的流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微纳米级颗粒等特点,可重复使用,使用寿命长,且适于规模化大批量生产。

主权项:1.一种流体处理装置,其特征在于,包括:具有流体通道的基体,所述基体具有相背对的第一表面和第二表面,所述流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面,以及复数根线形体的聚集体,用以对流经所述流体通道的、混杂有选定颗粒的流体进行处理,所述复数根线形体彼此间隔设置并平行排布形成多孔结构,所述复数根线形体一部分与另一部分相互交叉或彼此交织形成多孔结构;所述聚集体分布于所述流体通道内,并具有多孔结构,所述多孔结构内孔洞的直径大于0但小于所述选定颗粒的粒径;所述线形体的局部或全部表面及所述基体的局部或全部表面设置合适低表面能物质形成的涂层,或直接利用疏水材料形成所述线形体、基体;所述基体的第一表面还分布有彼此间隔设置的复数根竖立线形体,所述复数根竖立线形体环绕所述流体通道设置;还包括流体阻挡部,所述流体阻挡部具有与所述基体的第一表面相对设置的第三表面,并且所述复数根竖立线形体一端固定设置于所述基体的第一表面,另一端与所述流体阻挡部的第三表面固定连接,其中相邻竖立线形体之间的距离大于0但小于所述选定颗粒的粒径;所述线形体选自纳米线或纳米管;至少于所述线形体表面还分布有光催化材料或抗菌材料;和或,所述线形体包括碳纳米线、碳纳米管、Zn0纳米线、GaN纳米线、Ti02纳米线、Ag纳米线、Au纳米线中的任一种或两种以上的组合。

全文数据:

权利要求:

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