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申请/专利权人：阪田油墨股份有限公司
申请日：2021-05-06
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN113621274B
主分类号：C09D17/00
分类号：C09D17/00;G03F7/004;G03F7/027
优先权：["20200507 JP 2020-081875"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.05#授权;2023.03.07#实质审查的生效;2021.11.09#公开
摘要：本发明涉及用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物，所述用于黑矩阵的颜料分散组合物包含炭黑和或内酰胺黑、二氧化硅、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂，并且所述二氧化硅通过六甲基硅氮烷进行表面处理，相对于100质量份的所述炭黑和或内酰胺黑，所述二氧化硅为40质量份以下。该用于黑矩阵的颜料分散组合物的分散稳定性优异，并可获得具有低反射率的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。
主权项：1.一种用于黑矩阵的颜料分散组合物，其包含炭黑和或内酰胺黑、二氧化硅、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂，其特征在于，所述二氧化硅的平均一次粒径为30nm以上，且通过六甲基硅氮烷进行表面处理，并复合了有机粒子，相对于100质量份的所述炭黑和或内酰胺黑，所述二氧化硅为5质量份以上40质量份以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 阪田油墨股份有限公司 用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物
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