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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2019-09-03
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN110880465B
主分类号：H01L21/673
分类号：H01L21/673;H01L21/67
优先权：["20180906 JP 2018-167219"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.05#授权;2021.03.09#实质审查的生效;2020.03.13#公开
摘要：本发明涉及基片处理装置和吹扫方法。本发明的一个方式的基片处理装置包括：承载器保管架，其载置收纳基片的承载器；气体供给部，其对载置于上述承载器保管架的上述承载器内供给非活性气体；和控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对上述承载器内供给上述非活性气体。本发明能够减少非活性气体的使用量。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：承载器输送区域，其能够送入送出收纳基片的承载器；晶片输送区域，其对被送入到所述承载器输送区域的承载器内的基片进行输送而将其送入处理炉；和控制部，在所述承载器输送区域设置有：承载器保管架，其载置并保管承载器；承载器载置台，其在将承载器内的基片输送到所述晶片输送区域时载置承载器；和气体供给部，其对载置于所述承载器保管架和所述承载器载置台的所述承载器内供给非活性气体；所述控制部基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对载置于所述承载器保管架的承载器内供给所述非活性气体，并且，针对载置于所述承载器载置台的承载器，在该承载器在所述承载器保管架中被供给了非活性气体的情况下，在第一时间中对该承载器内供给非活性气体，另一方面，在该承载器在所述承载器保管架中没有被供给非活性气体的情况下，在第二时间中对该承载器内供给非活性气体，控制对该承载器供给非活性气体的时间以使得所述第一时间比所述第二时间短。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和吹扫方法
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