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申请/专利权人：凸版光掩模有限公司
申请日：2022-11-22
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118302719A
主分类号：G03F1/24
分类号：G03F1/24;G03F1/54;C23C14/06
优先权：["20211124 JP 2021-190273"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本公开的目的在于提供最大限度地活用相移效应、且具有高转印性特别是分辨率的反射型光掩模坯以及反射型光掩模。本公开的一个方式涉及的反射型光掩模坯100的特征在于，具备：基板11；形成在基板11上的具有多层膜结构的反射EUV光的反射层12；形成在反射层12上、保护反射层12的保护层13；以及形成在保护层13上的吸收EUV光的吸收层14，吸收层14具有200度以上280度以下的范围内的相位差。
主权项：1.一种反射型光掩模坯，特征在于，具备：基板；形成在所述基板上的具有多层膜结构的反射EUV光的反射层；形成在所述反射层上、保护该反射层的保护层；以及形成在所述保护层上的吸收EUV光的吸收层，所述吸收层具有200度以上280度以下的范围内的相位差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 凸版光掩模有限公司 反射型光掩模坯以及反射型光掩模
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