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一种超表面仿真方法及系统 

申请/专利权人:启元实验室

申请日:2024-03-01

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN118296872A

主分类号:G06F30/23

分类号:G06F30/23

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开

摘要:本申请公开了一种超表面仿真方法及系统,该方法包括:获取参数映射,对超表面的单元结构进行扫描,获得电磁波调制参数与单元结构参数的映射;获取初始调制矩阵,获取超表面的第一调制信息矩阵,及利用角谱法计算电磁波经过超表面后的第一分布场;分解调制矩阵,根据单元结构扫描点对应的相位,离散化第一调制信息矩阵形成第二调制信息矩阵,将第二调制信息矩阵分解为矩阵序列T={T1...TN};通过有限元法或时域有限差分法计算近场分布;利用角谱法计算远场分布及优化调制矩阵。本申请提出的技术方案,将高精度仿真方法与高效率仿真方法有机结合,缓解了高精度仿真方法无法直接应用于大规模超表面仿真的技术问题。

主权项:1.一种超表面仿真方法,其特征在于,包括:获取参数映射,对超表面的单元结构进行扫描,获得电磁波调制参数与所述单元结构参数的映射,其中,所述超表面用于折射或者反射电磁波;获取初始调制矩阵,获取所述超表面的第一调制信息矩阵,及利用角谱法计算电磁波经过所述超表面后的第一分布场;分解调制矩阵,根据所述单元结构扫描点对应的相位,离散化所述第一调制信息矩阵形成第二调制信息矩阵,将所述第二调制信息矩阵分解为矩阵序列T={T1...TN},其中T1...TN按照在所述第二调制信息矩阵中的索引位置累加后得到第二调制信息矩阵;计算近场分布,根据所述矩阵序列T中的每个元素和所述超表面单元结构的参数,通过有限元法或时域有限差分法计算得到电磁波的第二分布场序列,其中,所述矩阵序列T中的每个元素与第二分布场序列的每个元素一一映射;计算远场分布,利用角谱法计算所述第二分布场序列的电磁波在自由空间传播后的第三分布场序列;优化调制矩阵,累加所述第三分布场序列得到第四分布场,根据所述第一分布场与第四分布场的误差,优化所述第一调制信息矩阵,生成所述超表面的单元结构版图。

全文数据:

权利要求:

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