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申请/专利权人：合肥开悦半导体科技有限公司
申请日：2024-05-07
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118295218A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本发明公开了一种边缘曝光系统及方法，该系统包括输送定位模组和曝光模组，一个所述曝光模组至少对应两个输送定位模组，所述曝光模组对不同的输送定位模组输送的晶圆分别进行曝光处理。所述输送定位模组包括输送机构和定位机构，所述输送机构与所述定位机构对应设置，所述定位机构在晶圆送入曝光位置前对晶圆定位。所述曝光模组包括汞灯系统和光纤切换装置，汞灯系统包括至少两组出路光纤，所述出路光纤与所述输送机构对应设置，所述光纤切换装置实现出路光纤的切换。两个输送定位模组共用一个曝光模组，节省成本和空间，提升汞灯利用率，增加涂胶显影机产能。
主权项：1.一种边缘曝光系统，其特征在于，包括输送定位模组和曝光模组，一个所述曝光模组至少对应两个输送定位模组，所述曝光模组对不同的输送定位模组输送的晶圆分别进行曝光处理；所述输送定位模组包括输送机构和定位机构，所述输送机构与所述定位机构对应设置，所述定位机构在晶圆送入曝光位置前对晶圆定位；所述曝光模组包括汞灯系统和光纤切换装置，汞灯系统包括至少两组出路光纤，所述出路光纤与所述输送机构对应设置，所述光纤切换装置实现出路光纤的切换。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥开悦半导体科技有限公司 一种边缘曝光系统及方法
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