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一种基于多场协同作用的气体杂质脱除装置 

申请/专利权人:西安航天源动力工程有限公司

申请日:2023-07-28

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN118286810A

主分类号:B01D50/00

分类号:B01D50/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开

摘要:本发明公开了一种基于多场协同作用的气体杂质脱除装置。所公开的装置包括壳体,壳体一轴向端设有气体出口;从另一轴向端至气体出口所在端,壳体内依次设有撞击流聚并区、湍流聚并区和除雾区;撞击流聚并区设有多个气体入口;湍流聚并区设有扰流体,除雾区设有除雾器。本发明通过设置撞击流聚并以及湍流聚两种物理场相协同的方法对待处理气体进行预处理,提高了气体中含有的粉尘、酸性气体、可溶性盐、液滴等杂质的脱除效果。

主权项:1.一种基于多场协同作用的气体杂质脱除装置,其特征在于,所述装置包括壳体,壳体一轴向端设有气体出口;从另一轴向端至气体出口所在端,壳体内依次设有撞击流聚并区、湍流聚并区和除雾区;所述撞击流聚并区的壳体壁上设有至少一组气体进口;每组气体进口包括气体入口A和气体入口B,经气体入口A进入壳体内的气体与经气体入口B进入壳体内的气体在撞击流聚并区发生对撞;或者,所述撞击流聚并区的壳体壁上设有至少三个气体入口,经各气体入口进入壳体内的气体在撞击流聚并区发生对撞;所述湍流聚并区设有多个扰流体;各扰流体一端安装于壳体内壁,另一端延伸穿过壳体内气路至对侧的壳体内壁,所述另一端延伸方向垂直于壳体内气流方向;所述除雾区安装有除雾器。

全文数据:

权利要求:

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