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申请/专利权人：库柏爱迪生(平顶山)电子科技有限公司
申请日：2023-01-03
公开（公告）日：2024-07-05
公开（公告）号：CN118299215A
主分类号：H01H33/664
分类号：H01H33/664;H01H33/662
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.23#实质审查的生效;2024.07.05#公开
摘要：本发明涉及真空灭弧室。真空灭弧室包括：外壳，具有相对的两个端面并限定出内腔；两个端盖，分别焊接至所述外壳的所述两个端面；两个屏蔽环，分别套接在所述两个端盖与所述外壳的两个端面的焊接处并与相应的端盖导电连接以形成等电位；触头机构，安装在所述外壳的内腔中。根据本方案的真空灭弧室能够对由于焊接材料的暴露而引起的电场集中情况进行有效阻止，提高真空灭弧室的安全性，且真空灭弧室的尺寸也不会显著增加。
主权项：1.一种真空灭弧室，其特征在于，包括：外壳2，具有相对的两个端面并限定出内腔21；两个端盖3，分别焊接至所述外壳2的所述两个端面；两个屏蔽环4，分别套接在所述两个端盖3与所述外壳2的两个端面的焊接处并与相应的端盖3导电连接以形成等电位；触头机构5，安装在所述外壳2的内腔21中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 库柏爱迪生(平顶山)电子科技有限公司 真空灭弧室
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皖公网安备 34010402703815号