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用于进行甲烷氧化偶联的方法和系统 

申请/专利权人:鲁玛斯科技有限责任公司

申请日:2022-08-30

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN118302400A

主分类号:C07C1/04

分类号:C07C1/04;C07C11/04;C07C9/06

优先权:["20210831 US 63/238,816"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.07.05#公开

摘要:提供了一种使用低温气体混合物进料进行甲烷氧化偶联OCM反应以产生C2+化合物的方法。所述方法包括将小于或等于300℃的温度下的含有甲烷、氧气、氢气和一氧化碳的气体混合物进料引入到OCM反应器的入口,所述OCM反应器含有燃烧催化剂和OCM催化剂。使用所述燃烧催化剂燃烧所述气体混合物进料的至少一部分以生成具有至少450℃的温度的经加热气体混合物。所述经加热气体混合物接触所述OCM催化剂以引发OCM反应并产生包含C2+化合物的OCM流出物。还提供了一种用于使用低温原料气体混合物进行OCM反应的系统。

主权项:1.一种进行甲烷氧化偶联OCM反应以产生C2+化合物的方法,所述方法包括:a将包含甲烷CH4、氧气O2、氢气H2和一氧化碳CO且具有小于或等于300℃的温度的气体混合物进料引入到OCM反应器的入口,其中所述OCM反应器包含燃烧催化剂和OCM催化剂;b使所述燃烧催化剂与所述气体混合物进料接触以燃烧所述气体混合物进料的至少一部分并生成具有至少450℃的温度的经加热气体混合物;以及c使所述OCM催化剂与所述经加热气体混合物接触以引发OCM反应并产生OCM流出物,所述OCM流出物包含:iC2+化合物,其包含乙烯和乙烷,以及ii非C2+杂质,其包含CO、CH4、H2和二氧化碳CO2中的一者或多者。

全文数据:

权利要求:

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