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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日：2022-12-29
公开（公告）日：2024-07-02
公开（公告）号：CN118276423A
主分类号：G03F9/00
分类号：G03F9/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.19#实质审查的生效;2024.07.02#公开
摘要：本发明提供一种调焦调平系统、调焦调平方法及光刻设备，所述调焦调平系统包括光源、投影光栅、周期性线栅偏振器和探测单元，所述光源用于发射光束，所述投影光栅用于将所述光束分成条纹状的多个子光束，所述周期性线栅偏振器将所述子光束分为S偏振光和P偏振光，所述探测单元收集所述S偏振光和所述P偏振光，以通过所述S偏振光和所述P偏振光的差分信号表征所述待测器件的表面高度。
主权项：1.一种调焦调平系统，其特征在于，包括光源、投影光栅、周期性线栅偏振器和探测单元，所述光源用于发射光束，所述投影光栅用于将所述光束分成条纹状的多个子光束，所述周期性线栅偏振器将所述子光束分为S偏振光和P偏振光，所述探测单元收集所述S偏振光和所述P偏振光，以通过所述S偏振光和所述P偏振光的差分信号表征所述待测器件的表面高度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 调焦调平系统、调焦调平方法及光刻设备
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