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申请/专利权人：纽富来科技股份有限公司
摘要：本发明提供一种能够抑制散射束对描绘处理造成的影响的描绘装置的控制方法以及描绘装置。本实施方式的描绘装置是将多带电粒子束照射至照射对象的规定位置而在照射对象上描绘规定图案的描绘装置，该描绘装置具备：束生成机构，生成多带电粒子束；消隐孔径机构，具备对所生成的多带电粒子束进行遮蔽的限制孔径基板以及使多带电粒子束向规定方向偏转的偏转器，使多带电粒子束消隐；工作台，供照射对象载置，并且能够移动；驱动部，使限制孔径基板移动；以及控制部，对描绘装置进行控制，控制部在消隐的期间中使限制孔径基板从描绘时的配置位置起在垂直于多带电粒子束的轴向的面内移动，并在描绘时使限制孔径基板返回到配置位置。
主权项：1.一种描绘装置，将多带电粒子束照射至照射对象的规定位置而在所述照射对象上描绘规定图案的描绘装置，该描绘装置具备：束生成机构，生成多带电粒子束；消隐孔径机构，具备对所生成的所述多带电粒子束进行遮蔽的限制孔径基板和使所述多带电粒子束向规定方向偏转的偏转器，使所述多带电粒子束消隐；工作台，载置所述照射对象，并且能够移动；驱动部，使所述限制孔径基板移动；以及控制部，对所述描绘装置进行控制，所述控制部在所述消隐的期间中使所述限制孔径基板从所述描绘时的配置位置起在垂直于所述多带电粒子束的轴向的面内移动，在所述描绘时使所述限制孔径基板返回到所述配置位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 纽富来科技股份有限公司 描绘装置的控制方法以及描绘装置
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